全自动双腔设计,可兼容6-8英寸WAFER
支持数字通信接口和模拟通信接口,可对接MES系统
超低处理温度45℃,不造成热影响,确保稳定的处理效果
采用晟鼎专利中频数字电源,确保等离子体均匀,处理过程稳定
专门针对半导体行业的微波在线片式真空等离子清洗机,针对半导体芯⽚粘接前处理、塑封前处理、光刻胶去除、⾦属键合前处理。等离子体不带电,不对精密电路造成损害,采用磁约束方式,可兼容微波结和磁路。
SPR-08是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器,它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁,使用工艺气体三氟化氮(NF3)/O2,在交变电场和磁场作用下,原材料气体会被解离,从而释放出自由基,活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料(SIO/SIN)或者残余气体(H2O、O2、H2、N2)等物质产生化学反应,聚合为高活性气态分子经过真空泵组抽出处理腔室,提高处理腔室内部洁净度。
功能齐全、性价比非常高的科研系列接触角测量仪
快速有效清除产品表面浮沉颗粒,3um尘粒97%的清除率,6um尘粒98%的清除率
晟 鼎 | PLASMA处理及性能检测方案
致力于为全球用户提供专业的表面处理与检测整体解决方案
价值观:以客户为中心,专业、高效、信赖、共赢
创立于
专利技术
手机行业市场占有率
研发人员
汇智聚力,科创未来
敢拼敢想的创新精神和极其专注的务实作风
坚持自主研发,助力“中国智造”!
在真空环境中,通过施加高频电场产生的等离子体,使等离子体在电场内的运动,利用高能粒子物理轰击和化学反应,达到清洗、活化、改性的效果。晟鼎大腔体真空等离子清洗机的腔体可针对特定的工件尺寸和形状进行腔体尺寸选择和空间规划,可处理多尺寸和复杂形状的产品。
等离子体是物质的第四态,是不同于固态、液态和气态的电离态物质,由自由电子、离子和中性粒子组成的宏观电中性混合体。当外界向气体施加足够能量时,气体分子或原子会发生电离,从而形成等离子体。这种能量可以来自多种形式,包括:高温、强电场、电磁辐射(如紫外线、X射线)、激光或粒子轰击, 这些能量使气体部分或完全电离,最终形成等离子体状态。
在高端制造业飞速发展的今天,表面处理工艺已成为决定产品性能、可靠性与良品率的关键环节。等离子清洗机,作为一项高效的干式表面处理设备,正广泛应用于半导体封装、新能源、汽车制造、消费电子等领域。在众多国内厂家中,东莞市晟鼎精密仪器有限公司凭借其深厚的技术积累和丰富的行业应用经验,已成为这一领域的可靠选择。
晟鼎大气射流等离子清洗机在常压环境下,利用高压激励电源产生等离子体,通过物理轰击与化学反应共同作用于传感器表面,为保障汽车智能感知系统的高可靠性运行提供了关键技术支撑。
在封装行业中,等离子清洗是一种先进的清洗技术,它可以通过改性表面,增强粘合、去除污染物,增强表面附着力、增强产品的质量、提高良率、降低成本和提高生产效率等方面,为封装过程提供更好的环境和条件。
晟鼎等离子去胶机广泛应用于半导体制造、MEMS器件、光电子元件、先进封装等高科技领域的表面去胶、活化及表面处理等关键工艺。