RTP快速退火炉原理
RTP快速退火炉（Rapid Thermal Processding简称RTP）是一种用于半导体器件制造和材料研究的设备，通过控制加热和冷却过程中的温度和时间，从而实现对材料的精准控制和优化处理。使用上下两层红外卤素灯管作为热源加热，内部石英腔体保温隔热，腔体外壳为水冷铝合金，使得制品加热均匀，且表面温度低。
RTP快速退火炉应用
RTP快速退火炉是一种特殊的加热设备，能在短时间内将材料迅速加热到所需温度并通过快速冷却的方式实现对材料的热处理。RTP快速退火炉常用于离子注入退火、ITO镀膜后快速退火、氧化物和氮化物生长、MEMS工艺、IC晶圆、化合物半导体等。
RTP桌面型快速退火炉
RTP-Table-6为桌面式6英寸晶圆快速退火炉，使用上下两层红外卤素灯管作为热源加热内部石英腔体保温隔热，腔体外壳为水冷铝合金，使得制品加热均匀，且表面温度低。RTP-Table-6采用PID控制，系统能快速调节红外卤素灯管的输出功率，控温更加精准。
