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产品特点
ST-3100等离子去胶机采用高密度低损伤等离子源设计,采用独立腔室结构设计,实现均匀的流畅分布,去胶均匀性表现优异。
离子注入后光阻去除
表面残留物清除
刻蚀后表面清洁
聚合物去除
BAW/SAW工艺中的光阻去除