提供接触角测量仪、大气等离子清洗机、真空等离子清洗机、宽幅等离子清洗机、微波等离子清洗机、USC干式超声波除尘清洗机、离子静电消除装置等一站式服务设备
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除尘头两侧两个吸气口和中间一个吹气口，中间吹气口吹气产生超声波，使灰尘脱离产品表面，吸气口把灰尘吸走，完成除尘
可做到聚合物去除、氧化硅或碳化硅刻蚀、刻蚀后表面清洁
可有效去除表面残留物、介质与介质间光阻去除
可BAW/SAW工艺中的光阻去除，配备单腔双腔两种类型
全自动双腔设计，可兼容6-8英寸WAFER
可测单晶片样品的最大尺寸为12英寸
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