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产品特点
RTE PLASMA等离子去胶机适用于硅基材料的晶圆表面去胶的清洗设备,也可用于光刻胶去除,碳化硅刻蚀,硬掩膜层干法清除,刻蚀后表面清洁,氧化硅或氮化硅刻蚀。
碳化硅刻蚀
硬掩膜层干法清除
表面残留物清除
氧化硅或氮化硅刻蚀
刻蚀后表面清洁