提供接触角测量仪、大气等离子清洗机、真空等离子清洗机、宽幅等离子清洗机、微波等离子清洗机、USC干式超声波除尘清洗机、离子静电消除装置等一站式服务设备
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可BAW/SAW工艺中的光阻去除，配备单腔双腔两种类型
全自动双腔设计，可兼容6-8英寸WAFER
可测单晶片样品的最大尺寸为12英寸
温度可达1250℃，可测单晶片样品最大尺寸为6英寸
自由基分子的等离子体无偏压，不会对产品有电性损坏，去胶速率快
可测量样品表面疏水性、润湿性能、表面张力等测试功能
