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Plasma真空等离子清洗在半导体封装行业的应用

2025-06-25

在封装行业中,等离子清洗是一种先进的清洗技术,它可以通过改性表面,增强粘合、去除污染物,增强表面附着力、增强产品的质量、提高良率、降低成本和提高生产效率等方面,为封装过程提供更好的环境和条件。

真空等离子清洗机的原理:气体在一定条件下(如射频、微波、直流辉光放电等)电离形成活性等离子态,利用等离子中的活性粒子与物体表面污物进行化学反应,或利用等离子中的高能粒子轰击物体表面污物形成可挥发性的污物随真空泵油走,达到清洗的目的。

 

①改性表面

Plasma真空等离子表面处理可以有效地改性封装材料的表面,使其表面能得到提高,从而增强材料的亲水性,有利于后续封装过程的进行。

 

②增强粘合

Plasma真空等离子表面处理可以通过表面改性来增强封装材料之间的粘合性能。在封装过程中,胶粘剂的使用是必不可少的,而等离子清洗可以有效地活化材料表面,提高胶粘剂的润湿性和粘附力,从而增强封装材料的粘合效果,提高产品的可靠性和稳定性。

 

③去除污染物

在封装过程中,硅芯片表面的氧化物、金属杂质等污染物会对产品的质量造成严重的影响。Plasma真空等离子表面处理可以通过高速粒子束流和活性粒子的作用,去除硅芯片表面的氧化物和金属杂质,从而保证产品的质量和可靠性。

 

④提高生产效率

Plasma真空等离子清洗可以实现连续化、自动化的生产过程,减少了生产线上的人工干预,节省了大量时间成本和人力成本。同时,清洗过程对材料表面的改性和清洁作用也可以提高后续封装操作的效率,进一步提高了生产效率。

 

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